Intelは、投資家向けカンファレンスにて、IntelはEUVを用いる7nmプロセスについて言及しました。同社の7nm EUVプロセスが順調に進んでいることを明らかにしました。
Intelは7nm EUVプロセスが10nm DUV (Deep ultraviolet) プロセスとはリンクしておらず、別のチームが開発していることを強調していました。
「Intelの7nmプロセスは別のチームが開発しており、リソースも別に割り振られている。7nmプロセスの進捗には非常に満足している」
IntelのRenduchintala Murthy氏 (chief engineering officer and president of technology, systems architecture and client group at Intel) は語りました。
「10nmの経験から我々は非常に多くを学び、トランジスタ密度、電力、性能、そしてスケジュール、これらを違った最適化を行い定義し、そして我々の内部計画に従って7nmプロセスに注力を続けてきた」
10nm DUVの次の7nm EUVについてはこれまであまり言及していなかったIntelでしたが先日の投資家向けカンファレンスで進捗状況が明らかにされたようです。7nm EUVは10nm DUVとは別のチーム及びリソースを持って開発していて、その進捗は非常に満足のいくものだそうです。
7nm EUVの具体的な予定でありますが、ロールアウトが2019年末、チップの大量生産が2020～2021年となる見込みです。10nm DUVは早くて2019年後半と言われていまして、7nm EUVがこの通り進んだ場合には、10nm DUVは比較的短命なプロセスとなるかもしれません。
